先進工藝過剩 臺積電計劃關閉部分EUV光刻機以節(jié)電
來自產(chǎn)業(yè)鏈的消息人士手機晶片達人的消息稱,由于先進制程產(chǎn)能利用率開始下滑,而且評估之后下滑時間會持續(xù)一段周期,臺積電計劃從年底開始,將部分EUV
設備關機,以節(jié)省EUV設備巨大的耗電支出。
據(jù)了解臺積電目前擁有大約80臺EUV光刻機,主要用于7nm、5nm及以下的先進工藝,今年9月份還會量產(chǎn)3nm工藝,都需要EUV光刻機,然而隨著PC、手機、顯卡等產(chǎn)品的需求下滑,先進工藝生產(chǎn)的芯片勢必會受到影響。
蘋果今年的iPhone 14
Pro系列的A16處理器也沒有急著上3nm工藝,還在用4nm工藝,此外蘋果還因為3nm能效問題,取消了初代3nm生產(chǎn)芯片的計劃。
相比之前的DUV光刻機,EUV光刻機需要使用高能激光器,而且光線會多次折射導致?lián)p耗極大,早期效率只有0.02%,現(xiàn)在量產(chǎn)的說是可以達到2%效率,但也意味著絕大多數(shù)電力都要消耗掉。
EUV光刻機生產(chǎn)一天需要3萬度電左右,一年耗電大約1000萬度,是十足的電老虎。
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