國(guó)人對(duì)于芯片制造可能更多是光刻機(jī)這種設(shè)備，然而芯片制造是一條相當(dāng)長(zhǎng)的產(chǎn)業(yè)鏈，業(yè)界人士指出芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈包括了八大設(shè)備和八大材料，值得高興的是國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈共同努力下已一步步實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化。

　　在芯片設(shè)備方面進(jìn)展較為迅速，此前業(yè)界人士指出國(guó)產(chǎn)芯片設(shè)備在清洗機(jī)、涂膠顯影機(jī)、離子注入機(jī)等設(shè)備方面都已達(dá)到14nm級(jí)別，目前正在研發(fā)7nm、5nm的設(shè)備，與世界先進(jìn)水平的差距也比較小了，并且正處于加速追趕中，與全球先進(jìn)水平的差距在快速縮短。

　　其中國(guó)產(chǎn)芯片制造設(shè)備當(dāng)中，刻蝕機(jī)是進(jìn)展最快的，國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)已做到5nm，這也是國(guó)產(chǎn)設(shè)備中最先進(jìn)的部分，刻蝕機(jī)已獲得臺(tái)積電的認(rèn)可并被它采用，遺憾的是由于種種原因，技術(shù)最先進(jìn)的國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)目前只有臺(tái)積電采用，三星、Intel等考慮種種因素不愿采用中國(guó)產(chǎn)的設(shè)備，因此國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)在全球市場(chǎng)占有的份額還比較低。

　　讓人遺憾的恰恰是廣受關(guān)注的光刻機(jī)拖了后腿，據(jù)稱(chēng)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)最先進(jìn)的也只能達(dá)到28nm工藝，這已成為中國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈最薄弱的環(huán)節(jié)，原因在于光刻機(jī)是諸多設(shè)備當(dāng)中最復(fù)雜的，畢竟ASML的光刻機(jī)也是集中歐美日等國(guó)先進(jìn)元件的精華。不過(guò)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)企業(yè)上海微電子連續(xù)斬獲訂單，正為它帶來(lái)源源不斷的收入，可望幫助它加速技術(shù)研發(fā)，在光刻機(jī)技術(shù)方面加速追趕ASML。

　　芯片制造材料可能被國(guó)人所忽視，然而材料其實(shí)對(duì)于芯片制造非常重要，此前三星就因?yàn)楸蝗毡究ㄖ髁斯饪棠z等材料一度陷入停產(chǎn)恐慌，為此韓國(guó)集中全國(guó)科研技術(shù)研發(fā)光刻膠等材料，迅速解決問(wèn)題，擺脫了日本的制約。

　　韓國(guó)用兩三年時(shí)間研發(fā)出自己的芯片制造材料，說(shuō)明芯片制造材料也不是美國(guó)和日本制約其他國(guó)家發(fā)展芯片制造的重要障礙，只要集中力量可以很快突破。

　　多氟多迅速量產(chǎn)高純電子化學(xué)品材料，說(shuō)明中國(guó)在材料研發(fā)方面確實(shí)也有厚實(shí)的基礎(chǔ)，正因?yàn)槲覀兯鶕碛械脑鷮?shí)基礎(chǔ)，得以迅速研發(fā)相關(guān)的芯片制造材料，可以預(yù)期其他與芯片制造的材料也將陸續(xù)解決。

　　中國(guó)對(duì)芯片制造的重視主要還是近幾年，而這幾年時(shí)間確實(shí)也在芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈方面加速完善，可以預(yù)期只要再花幾年時(shí)間，國(guó)產(chǎn)芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈解決了光刻機(jī)這個(gè)瓶頸之后，國(guó)產(chǎn)芯片制造完全自主化就將實(shí)現(xiàn)，到那時(shí)候誰(shuí)也無(wú)法阻止中國(guó)芯片制造的發(fā)展。

　　目前中國(guó)已成為全球第三大芯片制造產(chǎn)能大國(guó)，芯片制造工藝也已推進(jìn)至14nm，7nm工藝在中芯國(guó)際的推動(dòng)下也在加速量產(chǎn)，業(yè)界人士指出一旦中芯國(guó)際的7nm工藝量產(chǎn)，那么國(guó)內(nèi)對(duì)芯片的需求將有九成得以滿(mǎn)足。

　　芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈的成型，代表著國(guó)產(chǎn)芯片的最后一個(gè)環(huán)節(jié)即將攻克，這是中國(guó)制造的巨大成功，體現(xiàn)了只要堅(jiān)持艱苦奮斗，誰(shuí)也擋不住中國(guó)制造前進(jìn)的腳步，自主創(chuàng)新將成為現(xiàn)實(shí)。