8月11日,華為旗下深圳哈勃科技投資合伙企業(yè)(以下簡稱“華為哈勃”)新增對外投資徐州博康信息化學(xué)品有限公司(以下簡稱“徐州博康”)。工商信息顯示,徐州博康除了投資人一項新增華為哈勃以外,注冊資本從7600.9499萬元增加到8445.4999萬元。
華為哈勃史上最大的半導(dǎo)體投資
作為華為哈勃最新投資的半導(dǎo)體廠商,徐州博康在光刻膠領(lǐng)域可謂實力強勁。OFweek電子工程網(wǎng)注意到,今年4月華為哈勃正式成立,注冊資本20億元。在距今短短4個月的時間里,華為哈勃已經(jīng)投資了7家企業(yè),徐州博康正是華為哈勃投資的第六家半導(dǎo)體企業(yè)。
在此之前,華為哈勃相繼投資了云英谷、天域半導(dǎo)體、強一半導(dǎo)體、天仁微納,以及歐錸德微電子等,可謂是動作頻頻。此次3億元增資徐州博康,也成為了華為哈勃歷史上最大單筆半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈投資。
公開資料顯示,徐州博康位于江蘇省邳州經(jīng)濟開發(fā)區(qū),是集研發(fā)、生產(chǎn)、經(jīng)營中高端光刻膠、光刻膠單體和光刻膠樹脂為主的國家高新技術(shù)企業(yè),也是目前本土企業(yè)中,唯一可以規(guī)?;a(chǎn)中高端光刻膠單體材料的制造商。公司自成立以來一直專注于高端精細化工領(lǐng)域醫(yī)藥中間體和高端電子化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn),目前現(xiàn)有職工100多人,其中專業(yè)技術(shù)人員50人,建有3000m2研發(fā)中心,已獲得十多項發(fā)明專利,先進的分析檢測設(shè)備,完備的中試設(shè)備,標準化的生產(chǎn)車間。企業(yè)擁有自己的核心技術(shù)研發(fā)團隊、中試放大團隊及生產(chǎn)團隊,并通過專業(yè)化的流程管理來控制產(chǎn)品質(zhì)量。
徐州博康專注于光刻膠原材料到成品的自主研發(fā)及生產(chǎn),實現(xiàn)了從單體、光刻膠專用樹脂、光酸劑及終產(chǎn)品光刻膠的國產(chǎn)化自主可控的供應(yīng)鏈;擁有5000平方研發(fā)中心,位于松江漕河涇科技綠洲,研發(fā)團隊200余人,博士和碩士占比50%以上。配置有KrFNikonS204、I9、I12、ACT8track、日立CDSEM等先進光刻檢測設(shè)備,以及其它理化檢測設(shè)備如ICP-MS、HPLC、GC、IR等。
徐州博康產(chǎn)品線涵蓋193nm/248nm光刻膠單體、193nm/248nm光刻膠、G線/I線光刻膠、電子束光刻膠等產(chǎn)品。目前已成功開發(fā)出40+個中高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括多種電子束膠,ArF干法光刻膠,KrF正負型光刻膠,I線正負型光刻膠及GHI超厚負膠,應(yīng)用于IC集成電路制造多個環(huán)節(jié),服務(wù)客戶超100家。
今年6月,徐州博康被列入建議支持的國家級專精特新“小巨人”企業(yè)。在產(chǎn)業(yè)資本和政府的支持下,徐州博康新建年產(chǎn)1100噸光刻材料及1萬噸電子溶劑新工廠已于2021年6月份正式投產(chǎn),項目全部達產(chǎn)后,可實現(xiàn)年產(chǎn)值20億元,這也是中國目前第一個可以規(guī)?;a(chǎn)中高端光刻膠的生產(chǎn)基地。
進軍光刻膠,華為半導(dǎo)體領(lǐng)域再加碼
對于華為哈勃這一次出手,業(yè)內(nèi)并不感到意外。有觀點分析認為,華為可能是在培育自己的芯片生產(chǎn)供應(yīng)鏈。眾所周知,自2018年中美貿(mào)易摩擦展開以來,美商務(wù)部對華為發(fā)動多輪制裁,嚴格限制了華為從美國獲取先進的芯片設(shè)計以及芯片制造的渠道,華為最大的合作伙伴臺積電也在助其完成5nm芯片代工后暫停了先進制程方面的合作。
在美國的嚴厲裁下,華為海思麒麟芯片不得不遭遇停產(chǎn)危機,華為手機市場份額出現(xiàn)斷崖式下滑。這一點在華為公布2021年半年業(yè)績時也能看出,今年上半年華為實現(xiàn)銷售收入3204億元人民幣,其中消費者業(yè)務(wù)收入為1357億元人民幣。而華為消費者業(yè)務(wù)收入在去年上半年為2558億元人民幣,近乎腰斬。
在美國瘋狂的圍追堵截下,中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈實現(xiàn)自主可控已迫在眉睫,國產(chǎn)替代勢在必行。而建立自主可控的國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈,不僅僅要實現(xiàn)設(shè)計、制造可控,更要實現(xiàn)關(guān)鍵材料的自主可控。
光刻膠正是芯片關(guān)鍵材料中的重點所在,在此前一篇《芯片制造工藝中需要用到的半導(dǎo)體材料及其龍頭企業(yè)盤點》文章中,我們曾介紹過光刻膠是光刻成像的承載介質(zhì),其作用是利用光化學(xué)反應(yīng)的原理將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信息轉(zhuǎn)化為化學(xué)能量,進而完成掩模圖形的復(fù)制。
光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產(chǎn)生劑或光敏化合物、溶劑,以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一,特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。
一直以來徐州博康都是一家非常低調(diào)的公司,其在海外的知名度甚至要高于國內(nèi)。公開資料顯示,徐州博康的客戶也主要面向海外光刻膠大廠,包括在光刻膠領(lǐng)域最知名的幾家公司如JSR、TOK、東麗等。經(jīng)過近年來的不斷努力與拓展,博康已經(jīng)擁有完備的光刻膠自供應(yīng)鏈(單體+樹脂+光酸+光刻膠),可以實現(xiàn)由初始原料到成品膠的全國產(chǎn)化自主化生產(chǎn)。
光刻膠——半導(dǎo)體國產(chǎn)化的一道坎
從年初央視報道的“光刻膠靠搶!”到近期某證券分析師與中芯國際技術(shù)負責(zé)人在微信群里“互嗆”,光刻膠領(lǐng)域是熱點頻出。今年以來,全球芯片供應(yīng)緊缺持續(xù),各大晶圓廠積極擴張產(chǎn)能,上游半導(dǎo)體耗材光刻膠等材料需求巨大。同時,我國半導(dǎo)體國產(chǎn)化替代在積極提速,力求實效技術(shù)突破。
但由于光刻膠的質(zhì)量和性能對光刻工藝有著重要影響,技術(shù)壁壘很高,因此長期被日本等JSR(日本)、信越華學(xué)(日本)、陶氏(美國)等國外企業(yè)所主導(dǎo),光是日本企業(yè)在光刻膠領(lǐng)域的市場份額就超過了85%。因此光刻膠依然是目前國內(nèi)芯片制造領(lǐng)域最卡脖子的材料之一。
雖說光刻膠一直以來都是半導(dǎo)體國產(chǎn)化的一道大坎,但國內(nèi)廠商也在付出不少的努力之后迎來了高光的表現(xiàn)。今年3月,上海新陽宣布購得ASML的光刻機等核心設(shè)備,并在今年6月底宣布,其自主研發(fā)的KrF(248nm)厚膜光刻膠已通過客戶驗證,取得首筆訂單,后續(xù)將進入產(chǎn)業(yè)化階段。
7月27日,南大光電公告稱,公司控股子公司寧波南大光電擬通過增資擴股方式,引入戰(zhàn)略投資者大基金二期,大基金二期擬以合計1.833億元的價格認購公司控股子公司寧波南大光電的新增注冊資本6733.19萬元,認繳出資比例18.33%。。兩天后,南大光電再度發(fā)布公告稱,公司承擔(dān)的國家科技重大專項(02 專項)已通過專家組驗收。其中包括極大規(guī)模集成電路制造裝備及成熟工藝、先進7nm光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與光刻膠供給鏈產(chǎn)業(yè)化。