有新聞報道，復旦大學設計出了一種新型態(tài)基于原子級薄度的半導體設計出一種內存，透過二維過度金屬材料創(chuàng)造出一種原子級薄度的半導體，不需要電力輔助用光線就能消除儲存數據。
近日有研究團隊基于原子級薄度的半導體設計出一種內存，除了具有良好的性能，也可以在完全不需要電力輔助的情況下，用光線就能消除儲存數據，團隊認為這種新的內存在系統(tǒng)整合型面板（SystemonPanel）上，具有十分大的應用潛力。
復旦大學和中國科學院微電子研究所的Long-FeiHe及相關研究人員最近在新的應用物理學快報（AIP）期刊上發(fā)表了一個關于新型態(tài)內存的論文。
由于大多數現有的內存技術都太過笨重，無法整合應用在顯示面板上，研究人員一直都在研究全新的設計和材料，試圖制造出同樣具有良好性能、卻能超薄的儲存設備。
在這項新的研究中，研究人員透過二維過度金屬材料「二硫化鉬」（MoS2）的應用，創(chuàng)造出一種原子級薄度的半導體，它的電導率（conducTIvity）可以被精細的調整，進而形成具有高開關電流比的內存基礎組件。
除此之外，團隊也在測試中證實，這類型內存具有運行速度快、大容量的內存空間和優(yōu)異的保存性，研究人員估計，即使處在85°C（185°F）的高溫下10年，儲存空間仍可以保存原有的60%左右，對于實際應用來說仍然足夠。
過去已有研究證實二硫化鉬具有光敏性（photoresponsive），這意味著一些性質可以運用光來控制，為了了解實際應用情況，團隊也實際進行了相關實驗，結果他們發(fā)現，當光線照射到已編程的存儲設備上時，儲存數據被完全消除，但同時運用電壓抹除信息的方式也仍然可以使用。
合著人HaoZhu表示，團隊目前正在研究透過編程可控的光脈沖波長和時間，來大規(guī)模整合這種儲存組件。研究人員相信未來這種儲存設備，將會在系統(tǒng)整合型面板的應用上扮演重要角色。
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