第三代半導(dǎo)體,路子越走越寬

時(shí)間:2022-08-30

來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察

導(dǎo)語:近年來,在材料生長、器件制備等技術(shù)的不斷突破下,第三代半導(dǎo)體的性價(jià)比優(yōu)勢逐漸顯現(xiàn)。

  其中,氮化鎵(GaN)從2018年開始,憑借著在消費(fèi)類快充電源領(lǐng)域的如魚得水,其發(fā)展也逐漸駛?cè)肓丝燔嚨?,業(yè)界甚至將7月31日定為世界氮化鎵日。

  本篇文章就來探討下,隨著氮化鎵市場的持續(xù)火熱,其未來會呈現(xiàn)出怎樣的光景?廠商們又為之做出了怎樣的布局?

  一、消費(fèi)領(lǐng)域放量,邁向更高市場

  氮化鎵作為一種寬帶隙復(fù)合半導(dǎo)體材料,具備禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、開關(guān)頻率高,以及抗輻射能力強(qiáng)等優(yōu)勢。其中,開關(guān)頻率高意味著應(yīng)用電路可以采用尺寸更小的無源器件;擊穿電壓高則意味著電壓耐受能力比傳統(tǒng)硅材料高,不會影響導(dǎo)通電阻性能,因此能夠降低導(dǎo)通損耗。種種優(yōu)勢加持下,GaN 成為了更好支持電子產(chǎn)品輕量化的關(guān)鍵材料。

  以氮化鎵最為火爆的快充市場為例,與傳統(tǒng)快充相比,氮化鎵快充具備更大的功率密度,充電和散熱速度更快,而且體積更小、便于攜帶,可以滿足消費(fèi)者對于電子產(chǎn)品充電快與輕量化的雙重需求,vivo、OPPO、蘋果、三星等手機(jī)大廠也接連入局。

  今年3月,氮化鎵廠商納微半導(dǎo)體和GaN Systems先后宣布,進(jìn)入三星Galaxy S22快充供應(yīng)鏈,助力實(shí)現(xiàn)配套45W快充充電器;7月,Realme發(fā)布了真我GT2大師探索版,除了搭配百瓦氮化鎵充電頭之外,還首次在手機(jī)端引入氮化鎵功率器件;同樣在7月,iQOO宣稱已在關(guān)鍵元器件電源開關(guān)和PFC兩處使用氮化鎵,iQOO10Pro更是首次商用200W 超快閃充技術(shù),最快10分鐘可將4700mAh大電池從1%充至100%。種種舉措再次印證了手機(jī)廠商對于GaN快充產(chǎn)品的認(rèn)可。

  數(shù)據(jù)顯示,現(xiàn)如今消費(fèi)快充市場已成為絕大多數(shù)氮化鎵功率半導(dǎo)體廠商營收的主要來源。據(jù)市場研究機(jī)構(gòu)Yole預(yù)測,在消費(fèi)類電源市場,氮化鎵的規(guī)模到2027年將超過 9.156 億美元,2021 年至 2027 年期間的復(fù)合年增長率將達(dá)到 52%。

  與此同時(shí),在相關(guān)技術(shù)演進(jìn)和終端廠商的聯(lián)合推動下,氮化鎵的應(yīng)用場景也在不斷擴(kuò)展。不少分析師紛紛指出,除了消費(fèi)快充,數(shù)據(jù)中心、通訊基站、可再生能源等工業(yè),甚至汽車市場等都將成為推動下一個(gè)功率 GaN 浪潮的驅(qū)動力。

  在數(shù)據(jù)中心和通信兩個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域,GaN的理論優(yōu)勢正在主流設(shè)計(jì)中逐漸實(shí)現(xiàn)。對于這兩個(gè)耗電大戶來說,GaN電力電子技術(shù)可助力終端設(shè)備降低電力成本,并提高運(yùn)行效率,目前Rohm 正在為電信/數(shù)據(jù)通信應(yīng)用提供 150V GaN 產(chǎn)品。YOLE預(yù)測,用于數(shù)據(jù)通信/電信的 GaN 市場預(yù)計(jì) 2021-2027 年的復(fù)合年增長率為 69%,到 2027 年價(jià)值將超過 6.178 億美元。

  在可再生能源方面,GaN功率元件的優(yōu)勢也十分明顯。納微半導(dǎo)體發(fā)布的寬禁帶行業(yè)可持續(xù)發(fā)展報(bào)告指出,每顆出貨的清潔、綠色氮化鎵功率芯片可節(jié)省 4 kg CO2排放,GaN有望節(jié)省高達(dá) 2.6 億噸/年的二氧化碳排放量,相當(dāng)于650座燃煤發(fā)電站的排放量。

  至于電動汽車領(lǐng)域,雖然相較于碳化硅的“上車”熱潮,當(dāng)前氮化鎵“上車”仍在蓄力中,GaN汽車市場規(guī)模仍然很小,但寶馬、緯湃科技等車企或Tier1都已經(jīng)躍躍欲試,其重要的一個(gè)轉(zhuǎn)折點(diǎn)就是,2021年寶馬與GaN Systems合作,就寶馬高性能車載標(biāo)準(zhǔn)氮化鎵功率半導(dǎo)體簽訂了全面的產(chǎn)能協(xié)議,合作金額達(dá)1億美元。

  據(jù)了解,氮化鎵在新能源汽車領(lǐng)域主要有三種應(yīng)用,分別是車載充電器,用于給高壓電池充電;DC/DC轉(zhuǎn)換器,將來自高壓電池的電力轉(zhuǎn)換給汽車上其他電子設(shè)備;牽引驅(qū)動或電機(jī)控制,可以用于驅(qū)動電機(jī)。其中,GaN的高速特性作用于車載激光雷達(dá),可助力激光雷達(dá)看得更遠(yuǎn)、更快、更清晰。YOLE預(yù)測,到 2027 年,GaN 汽車市場預(yù)計(jì)將超過 2.27 億美元,2021-2027 年的復(fù)合年增長率為 99%。

  在終端市場的驅(qū)動下,越來越多的氮化鎵廠商開始將電動汽車市場視為下一個(gè)目標(biāo)市場。比如:GaN Systems將與EPowerlabs公司共同合作,為汽車企業(yè)交付一款高密度DC/DC功率轉(zhuǎn)換器——DDC48-1K;納微半導(dǎo)體在上海正式成立電動汽車研發(fā)中心,與電動汽車制造商合作開發(fā)自己的氮化鎵系統(tǒng)。業(yè)內(nèi)預(yù)計(jì),基于GaN技術(shù)的電動汽車上市時(shí)間估計(jì)將在2025年前后,汽車領(lǐng)域或?qū)⒊蔀榈壌笠?guī)模采用的主角。

  二、氮化鎵基板,多種選擇

  毫無疑問,在各種終端市場的驅(qū)動下,氮化鎵技術(shù)只會越來越火熱,但其發(fā)展也會遇到各種難題,襯底制備就是其中之一,GaN 基板成本高、制造難度大。不過,與只能采用碳化硅襯底的碳化硅晶圓不同,氮化鎵可經(jīng)由磊晶的技術(shù)沉積在不同的基板上,包括硅(Si)、碳化硅(SiC)、藍(lán)寶石(Sapphire)等。

  目前市場上的GaN功率元件主要以GaN-on-Si(硅基氮化鎵)、GaN-on-SiC(碳化硅基氮化鎵)兩種晶圓進(jìn)行制造。

  其中,GaN-on-Si基于基礎(chǔ)硅技術(shù)上,可用較低的資本支出進(jìn)行生產(chǎn),Si 上的 GaN 能夠在簡單的空間硬控制模式下以高頻率和高功率水平運(yùn)行。目前,GaN-on-Si 用于衛(wèi)星、用于自動駕駛汽車的激光雷達(dá)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)系統(tǒng)、機(jī)器人技術(shù)等。相關(guān)研究人員曾總結(jié)道,GaN-on-Si 器件技術(shù)在導(dǎo)通電阻、開關(guān)速度、熱性能、芯片尺寸和成本方面表現(xiàn)出令人印象深刻的性能。

  在GaN-on-Si供應(yīng)鏈方面,納微半導(dǎo)體、氮矽科技等大部分廠商都致力于研究600-650V技術(shù),只有IEPC、GaN Systems、臺積電、羅姆等小部分廠商發(fā)力小于200V的氮化鎵技術(shù)。據(jù)韓媒etnews今年年初報(bào)道,韓國晶圓代工廠商DB HiTek將生產(chǎn)基于硅基氮化鎵技術(shù)的8英寸半導(dǎo)體,通過提高半導(dǎo)體制造的競爭力來簡化晶片加工以增強(qiáng)盈利能力。

  而GaN-on-SiC則結(jié)合了SiC優(yōu)異的導(dǎo)熱性和GaN的高功率密度和低損耗的能力,與Si相比,SiC是一種非?!昂纳ⅰ钡囊r底,此基板上的器件可以在高電壓和高漏極電流下運(yùn)行,結(jié)溫將隨射頻功率而緩慢升高,因此射頻性能更好。經(jīng)過驗(yàn)證,GaN-on-SiC 器件非常適合基礎(chǔ)設(shè)施、國防和航空應(yīng)用,如雷達(dá)、電子戰(zhàn)、通信、導(dǎo)航及類似應(yīng)用。

  此外,在相同的耗散條件下,SiC器件的可靠性和使用壽命更好,還具有高電阻特性,有利于毫米波傳輸。Wolfspeed 的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席技術(shù)官 John Palmour 曾指出,與硅相比,SiC 器件可降低系統(tǒng)成本并提高性能,因此,SiC 上的 GaN 被證明具有最佳的整體價(jià)值。

  值得注意的是,GaN-on-SiC晶圓受限于SiC襯底,大部分被限制在4英寸與6英寸,8英寸的還未推廣,目前SiC襯底技術(shù)主要掌握在國際少數(shù)廠商手上,例如美國Cree、II-VI及ROHM。

  當(dāng)然,除了以上這兩種主流技術(shù)外,還有GaN-on-sapphire,以及GaN-on-QST、GaN-based-vertical devices、GaN-on-SOT等。

  其中,GaN on Sapphire算是最為成熟,也最為常見,主要用在LED領(lǐng)域;QST基板由Qromis研發(fā),具有與氮化鎵磊晶層更緊密匹配的熱膨脹系數(shù),在制程中堆棧氮化鎵的同時(shí),也能降低翹曲破片,更有利于晶圓代工廠實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),因此成為了聯(lián)電、世界先進(jìn)兩大晶圓代工廠的選擇。目前,聯(lián)電透露預(yù)計(jì)2022年將提供8英寸 GaN on QST方案,主攻650~1.200V的功率范圍,世界先進(jìn)則將于2022年如期量產(chǎn)基于QST基板的氮化鎵組件。

  三、全球廠商新動態(tài)不斷

  在火熱的市場機(jī)會背景下,全球各大廠商都開始爭先布局氮化鎵技術(shù),今年以來,國內(nèi)外相關(guān)技術(shù)新聞更是接連不斷。

  先來看海外廠商。今年1月24日,韓國GaN外延企業(yè)IV Works宣布,收購法國Saint-Gobain的氮化鎵晶圓業(yè)務(wù),通過此次收購,IV Works可以掌握世界級的4英寸和6英寸氮化鎵晶圓量產(chǎn)技術(shù)。3月,IVworks還和應(yīng)用材料簽署聯(lián)合開發(fā)協(xié)議,宣布共同開發(fā)1200 V氮化鎵功率半導(dǎo)體材料技術(shù)。

  2月,英國氮化鎵材料開發(fā)商Porotech完成2000萬美元融資,將用于加速基于該公司“PoroGaN”化合物半導(dǎo)體材料的微型LED產(chǎn)品的量產(chǎn)。目前,該公司正在開發(fā)一種新型的基于多孔氮化鎵的發(fā)光器件。

  2月,比利時(shí)新 GaN 代工廠BelGaN收購Onsemi 在 Oudenaarde 的晶圓廠,計(jì)劃將原有的 6英寸的晶圓廠改造成6英寸和8英寸的氮化鎵代工廠,目標(biāo)市場包括汽車、移動、工業(yè)和可再生能源市場。

  3月,日本豐田合成和大阪大學(xué)采用了一種在鈉和鎵的液態(tài)金屬中生長 GaN 晶體的方法,來制造高質(zhì)量的 GaN 襯底,成功制造出了 6 英寸的襯底,為目前世界最大的襯底。

  3月30日,Odyssey Semiconductor官網(wǎng)宣布,成功開發(fā)700V的垂直 GaN 功率場效應(yīng)晶體管(FET) 技術(shù)。Odyssey 首席執(zhí)行官Rick Brown 表示,有望在2022年為少數(shù)客戶提供1200 V垂直 GaN FET。

  再來看,我國在政府的支持下,GaN 廠商的投資也越來越多。

  今年2月,英諾賽科完成近30億元D輪融資,并首度將GaN技術(shù)引入手機(jī)內(nèi)部充電保護(hù)。7月,采用英諾賽科 InnoGaN 產(chǎn)品的兩款氮化鎵充電器上架 Apple Store,標(biāo)志著英諾賽科氮化鎵功率器件打入蘋果合作伙伴 Mophie 供應(yīng)鏈。公開數(shù)據(jù)顯示,英諾賽科蘇州與珠海月產(chǎn)能已達(dá)10000片,供貨穩(wěn)定,截至2022年上半年,英諾賽科GaN芯片出貨量已突破8000萬顆。

  據(jù)了解,英諾賽科正在投資超過 4 億美元,計(jì)劃到 2025 年將其 8 英寸晶圓產(chǎn)能從每月 1 萬片擴(kuò)大到 7 萬片。消費(fèi)市場。

  2月,無錫吳越半導(dǎo)體有限公司獲數(shù)億元戰(zhàn)略融資,本輪融資將主要用于公司氮化鎵自支撐襯底的研發(fā)與擴(kuò)產(chǎn);3月,晶湛半導(dǎo)體完成數(shù)億元戰(zhàn)略融資,主要用于總部和研發(fā)中心建設(shè);5月,鎵未來完成近億元A+融資,主要用于氮化鎵功率芯片新產(chǎn)品研發(fā)及應(yīng)用方案開發(fā),以及供應(yīng)鏈建設(shè)。

  6月,華潤微收購第三代半導(dǎo)體廠商大連芯冠科技有限公司34.5625%股份,入局GaN,同時(shí)后者更名為潤新微電子(大連)有限公司,該公司已建成首條6英寸硅基氮化鎵外延及功率器件晶圓生產(chǎn)線。

  8月,宏光半導(dǎo)體宣布按配售價(jià)每股3.20港元向不少于六名承配人配售3.000萬股新股。據(jù)悉,宏光半導(dǎo)體此次配售新股的主要目的在于加強(qiáng)半導(dǎo)體相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)研發(fā)能力如發(fā)光二極管、迷你LED、快速電池充電、第三代半導(dǎo)體氮化鎵(GaN)器件等。

  8 月 10 日,蘇州納維科技研發(fā)和生產(chǎn)總部大樓封頂,將建設(shè)成為國際前三的氮化鎵單晶襯底研發(fā)基地與高端產(chǎn)品生產(chǎn)基地,預(yù)計(jì)年產(chǎn)氮化鎵單晶襯底及外延片 5 萬片。

  8月11日,中國臺灣國科會通過了鴻鎵科技中科分公司的投資案。據(jù)悉,鴻鎵科技擬投資2億新臺幣(約4500萬人民幣)設(shè)立鴻鎵科技中科分公司,進(jìn)駐中科臺中園區(qū),主攻研制氮化鎵功率外延片及氮化鎵功率晶體等產(chǎn)品。

  四、寫在最后

  即便氮化鎵未來前景廣闊,但現(xiàn)階段成本較高、電池安全性等難題仍然存在,但在眾多廠商的努力研發(fā)下,期待它未來路子越走越寬。


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