該知情人士稱，此前ASML就已經(jīng)無法將其最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)工具運(yùn)往中國了，但美國政府希望將限制范圍擴(kuò)大至老款DUV光刻機(jī)設(shè)備等。這些機(jī)器雖然比先進(jìn)技術(shù)落后了一代，但仍然是制造汽車、手機(jī)、電腦，乃至機(jī)器人所需的某些非先進(jìn)芯片的最常用設(shè)備。

　　除此之外，美國政府還試圖在對(duì)中國禁售光刻機(jī)方面向日本施加壓力，因?yàn)槿毡灸峥倒驹贏rFi光刻機(jī)領(lǐng)域占有少量的市場份額。

彭博社相關(guān)報(bào)道截圖

　　據(jù)悉，擴(kuò)大對(duì)華光刻機(jī)出口限制的這一提議，是由美國商務(wù)部副部長唐?格雷夫斯(Don Graves)在5月底至6月初訪問荷蘭和比利時(shí)期間提出的。當(dāng)時(shí)他還參觀了ASML總部，并與ASML首席執(zhí)行官彼得?溫寧克(Peter Wennink)討論了供應(yīng)鏈問題。

　　ASML為何受制于美國?

　　看到上述消息，不禁讓人產(chǎn)生疑惑：ASML是一家在荷蘭成立的公司，但為什么要受制于美國?

　　我們都知道，荷蘭ASML公司是全球最大的光刻機(jī)制造企業(yè)，但它其實(shí)也是一家集成工廠，其光刻機(jī)所需要的元件超過八成都是在荷蘭以外的經(jīng)濟(jì)體獲取的，特別是其中的關(guān)鍵技術(shù)和元件更是來自于美國。

　　正是由于ASML的核心技術(shù)和元件來自于美國，因此一臺(tái)售價(jià)昂貴的光刻機(jī)最后留給ASML的利潤其實(shí)并不高，美國企業(yè)已經(jīng)拿走了相當(dāng)比例的利潤，而這也是美國企業(yè)的一貫做法——取得壟斷地位的行業(yè)都會(huì)將產(chǎn)品賣出高價(jià)，獲取豐厚的利潤。

　　與此同時(shí)，ASML的幾大客戶，比如Intel、臺(tái)積電和三星等都深受美國影響。其中，Intel是美國企業(yè)，臺(tái)積電的部分核心技術(shù)也來自于美國，三星不僅技術(shù)來自于美國，就連它的大多數(shù)股份也被美國企業(yè)所持有。另外，臺(tái)積電和三星的客戶也主要是美國企業(yè)，尤其是臺(tái)積電有近七成的收入來自美國市場。

　　如此情況下，美國可謂是抓住了ASML的命脈，不聽從美國的要求，那么ASML就無法組裝出光刻機(jī)，更無法將光刻機(jī)銷售出去。

　　盡管ASML在全球芯片制造產(chǎn)業(yè)中扮演著一個(gè)非常重要的角色，但鑒于以上種種原因，如果未來某天ASML無法再保證DUV或者EUV光刻機(jī)的正常供應(yīng)了，那么像臺(tái)積電、三星等世界頂尖的芯片代工廠都會(huì)受到不利的影響，屆時(shí)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展也會(huì)陷入瓶頸。

　　DUV與EUV有什么區(qū)別?

　　分析完ASML公司的基本情況，我們?cè)賮砜匆幌麓舜巍敖睢鄙婕暗睦峡頓UV光刻機(jī)，相較于EUV光刻機(jī)到底有什么區(qū)別?

　　首先，二者最大的區(qū)別就在于光源的不同。

　　DUV光刻機(jī)使用的是較為普通的深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography)，其光源波長為193nm。

　　而EUV光刻機(jī)使用的則是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography)，其光源波長為13.5nm。需要說明的是，這一光源并非地球上天然存在的光線，而是需要特定的技術(shù)和設(shè)備才能制造出來的。

　　相比DUV光刻機(jī)的光源，EUV光刻機(jī)的光源更短，故而折射率更大、能量更大。

　　其次是光路系統(tǒng)的區(qū)別。

　　DUV光刻機(jī)的光路，主要利用光的折射原理，而且透鏡和晶圓之間可以采用不同的介質(zhì)來改變光刻性能。

　　反觀EUV光刻機(jī)，主要利用光的反射原理，而且由于光源的特殊性，需要真空操作。因?yàn)闊o論是水分子，還是空氣中的其它介質(zhì)，都會(huì)讓光源被吸收，從而造成損失。

　　再則是鏡頭質(zhì)量要求的區(qū)別。

　　相比DUV光刻機(jī)，條件特殊且系統(tǒng)復(fù)雜的EUV光刻機(jī)對(duì)鏡頭質(zhì)量更加嚴(yán)格。

　　有資料顯示，EUV光刻機(jī)需要反射透鏡具備極高的光學(xué)精度，同時(shí)還需要反射鏡表面鍍有采用Mo/Si多層膜結(jié)構(gòu)，以便于實(shí)現(xiàn)最佳反射率。

　　最后，從制程范圍來看，DUV光刻機(jī)只能生產(chǎn)7nm以上制程的芯片;而ASML制造出的EUV光刻機(jī)是生產(chǎn)7nm和5nm，甚至是3nm芯片的核心設(shè)備，因此更為高端。

　　上述種種區(qū)別，造就了DUV和EUV光刻機(jī)在應(yīng)用和價(jià)值上的最終區(qū)別。據(jù)悉，DUV的價(jià)格為2000-5000萬美元/臺(tái)不等;而EUV的價(jià)格則是1-3億美元/臺(tái)。目前，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了世界上的高端光刻機(jī)，且產(chǎn)量非常少，價(jià)格昂貴。

　　荷蘭ASML是什么態(tài)度?

　　作為制造芯片最先進(jìn)的設(shè)備，光刻機(jī)的先進(jìn)程度等因素直接決定了芯片的制程工藝。如果上述消息屬實(shí)，這也意味著美國對(duì)中國芯片產(chǎn)業(yè)的全面圍堵。

　　畢竟，具備7nm以下制程芯片制造能力的EUV光刻機(jī)，早在2020年初就因?yàn)槊绹膲毫Χ钩隹诘街袊耍鴩鴥?nèi)目前能夠自主制造的芯片制程仍停留在28nm。如果荷蘭同意限制ASML向中國出售DUV光刻機(jī)，這將使得限制禁止進(jìn)入中國的芯片制造設(shè)備的范圍和類別進(jìn)一步擴(kuò)大，由此可能對(duì)中芯國際、華虹半導(dǎo)體等中國大陸芯片制造商造成嚴(yán)重打擊。

　　雖然國內(nèi)也有一家光刻機(jī)廠商，名為上海微電子，但它目前所能生產(chǎn)出的最先進(jìn)的光刻機(jī)精度只有22nm，與ASML相比還是有一定差距的。

　　所以，現(xiàn)在有一個(gè)問題至關(guān)重要：ASML到底是什么態(tài)度?

　　針對(duì)此事，ASML發(fā)言人表示，“這種討論并不新鮮，目前公司尚未作出任何決定，我們不會(huì)對(duì)傳言加以臆測或評(píng)論。”

　　而尼康發(fā)言人也表示，“我們沒有關(guān)于此事的信息可以透露。”

　　另據(jù)上述知情人士透露，目前荷蘭尚未同意對(duì)ASML向中國芯片制造商出口的任何額外限制，這可能會(huì)損害該國與中國的貿(mào)易關(guān)系。由于無法從荷蘭獲得出口許可證，ASML已經(jīng)無法將其最先進(jìn)的、每臺(tái)售價(jià)約1.6億歐元的EUV光刻機(jī)運(yùn)往中國了。

　　與此同時(shí)，荷蘭首相馬克?呂特(Mark Rutte)不久之前也在公開場合表示，反對(duì)改變與中國的貿(mào)易關(guān)系。

　　而ASML首席執(zhí)行官彼得?溫寧克(Peter Wennink)此前也曾表明態(tài)度，反對(duì)禁止向中國出口DUV光刻機(jī)。他認(rèn)為，對(duì)華技術(shù)出口管制不僅不能阻止中國的技術(shù)進(jìn)步，反而會(huì)最終損害美國經(jīng)濟(jì)，最終搬了石頭砸自己的腳。

　　從歷史經(jīng)驗(yàn)可以看出，“惡意限制”絕不是一個(gè)國家絕對(duì)領(lǐng)先的好方法。如果ASML對(duì)中國停售關(guān)鍵芯片制造設(shè)備，必將會(huì)導(dǎo)致它未來的路越走越窄。