是的，就是那個(gè)芯片制造中最最最核心的設(shè)備(甚至沒(méi)有之一)，全球僅一家公司ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)EUV級(jí)別，一臺(tái)能賣好幾億元、核心技術(shù)被美國(guó)壟斷的光刻機(jī)。
而且，這次俄羅斯的計(jì)劃，看起來(lái)有點(diǎn)像那么回事——
有人、有錢、有目標(biāo)。
人，項(xiàng)目由有著蘇聯(lián)硅谷中心之稱、以微電子專業(yè)見(jiàn)長(zhǎng)的俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)承接。
錢，首期投資6.7億盧布資金。
目標(biāo)，挑戰(zhàn)當(dāng)前最先進(jìn)的EUV(極紫外)級(jí)別。
但即便如此，因?yàn)橹圃旃饪虣C(jī)登天之難、以及俄羅斯的資源儲(chǔ)備，網(wǎng)友們對(duì)這個(gè)消息并不太信：
確定不是個(gè)玩笑?!
巧的是，就在這消息放出前一天，俄羅斯最大芯片制造商Mikron被美國(guó)制裁。更早之前，俄羅斯為數(shù)不多的其他幾家芯片廠也已經(jīng)全方位被制裁。
所以現(xiàn)在的俄羅斯芯片，到底什么水平?真的能有底氣搞出先進(jìn)制程光刻機(jī)嗎?
無(wú)掩膜X射線光刻機(jī)?
我們先來(lái)看看計(jì)劃本身的難度如何。
據(jù)俄媒報(bào)道，俄羅斯工貿(mào)部委托MIET開(kāi)發(fā)“一種無(wú)掩膜X射線光刻機(jī)”，跟日常我們提到的EUV光刻機(jī)還有點(diǎn)不同。
首先的不同在于光源的選擇。
一種是極紫外光線，波長(zhǎng)在13.5nm;而X射線波長(zhǎng)介于0.01nm到10nm之間。
按照現(xiàn)有的常見(jiàn)思路，光刻機(jī)是特定波長(zhǎng)的光透過(guò)用來(lái)放大的掩膜，再通過(guò)透鏡的縮小，將集成電路圖精確“投影”在硅片上。
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