把臺(tái)積電變成“中積電”,我們就不怕芯片被卡脖子了?

時(shí)間:2021-12-15

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導(dǎo)語(yǔ):眾所周知,在芯片制造的過(guò)程中,有三大主要環(huán)節(jié),分別是設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)。而這三大環(huán)節(jié)中,我們?cè)O(shè)計(jì)、封測(cè)早達(dá)到了5nm,但制造還處于14nm。

  眾所周知,在芯片制造的過(guò)程中,有三大主要環(huán)節(jié),分別是設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)。而這三大環(huán)節(jié)中,我們?cè)O(shè)計(jì)、封測(cè)早達(dá)到了5nm,但制造還處于14nm。

  更重要的是當(dāng)前14nm以下的工藝,很難有進(jìn)展,因?yàn)镋UV光刻機(jī)買(mǎi)不到,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)跟不上來(lái),甚至不僅是EUV光刻機(jī),還有很多的其它國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備,也達(dá)不到14nm工藝。

  所以說(shuō)制造工藝是當(dāng)前我們最需要解決的問(wèn)題,一旦制造工藝達(dá)到了5nm,那就真的啥都不用擔(dān)心了,卡脖子不存在的。

  于是有人就表示了, 目前臺(tái)積電的水平早就達(dá)到了5nm,甚至明年要進(jìn)入3nm了,如果整合臺(tái)積電的技術(shù),也就是把臺(tái)積電變成“中積電”,那么我們就有了5nm芯片的設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)能力,甚至明年還能夠進(jìn)入到3nm,那我們就不用怕芯片卡脖子了。

  那么問(wèn)題就來(lái)了,把臺(tái)積電變成“中積電”,就真的不用怕芯片卡脖子了?我只能說(shuō)你是想多了。

  表面上看,臺(tái)積電的技術(shù)是達(dá)到了5nm,甚至明年進(jìn)入3nm,是全球芯片制造技術(shù)最先進(jìn)的企業(yè),沒(méi)有之一。

  但事實(shí)上,臺(tái)積電的技術(shù)是依賴(lài)于美國(guó)的,比如EUV光刻機(jī)需要從ASML購(gòu)買(mǎi),而ASML能不能賣(mài)光刻機(jī)給臺(tái)積電,要美國(guó)同意的。

  除此之外,臺(tái)積電需要用到的EDA軟件,也是美國(guó)公司提供的,還有其它眾多的設(shè)備、材料都是來(lái)自于美國(guó)、日本等企業(yè)。

  如果臺(tái)積電變成了“中積電”,美國(guó)完全有可能不允許美國(guó)企業(yè),甚至使用美國(guó)技術(shù)的日本、歐洲企業(yè),不賣(mài)這些設(shè)備、材料給臺(tái)積電,那么臺(tái)積電也就廢了。

  所以要解決中國(guó)芯被卡脖子的問(wèn)題,并不是搞定臺(tái)積電就行的,需要的是全國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈的崛起,即國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈能夠搞定先進(jìn)工藝,可以不依賴(lài)美國(guó)技術(shù)。

  比如國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)、國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備、國(guó)產(chǎn)材料等均達(dá)到先進(jìn)工藝,那樣才是真正的不怕卡脖子,自己實(shí)現(xiàn)自給。

  或者,我們也擁有卡住美國(guó)脖子的一些關(guān)鍵核心技術(shù),美國(guó)不得不用,那么雙方相互牽制,這樣你卡著我,我卡著你,最后就是大家都不卡對(duì)方,合作共贏。


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