反射內(nèi)存將使NI™的客戶能夠?yàn)榫哂刑魬?zhàn)性的測(cè)試、仿真應(yīng)用開發(fā)實(shí)時(shí)、確定性局域網(wǎng)
02/22/2011
      弗吉尼亞州夏洛茨維爾市– 2011年2月22日 —— GE智能平臺(tái)宣布已經(jīng)簽署協(xié)議，由美國(guó)國(guó)家儀器公司（NITM）分銷適用于3U CompactPCI®系統(tǒng)的GE cPCI-5565PIO反射內(nèi)存PMC和PMC載卡。傳輸速率2Gbaud、配備256MB內(nèi)存的cPCI-5565PIO基于GE PMC-5565PIORC，但包含了經(jīng)過(guò)專門設(shè)計(jì)的定制載卡，可與NI PXI機(jī)箱相結(jié)合，用于該公司的NI VeriStand™實(shí)時(shí)測(cè)試和仿真軟件平臺(tái)。

      GE智能平臺(tái)商用產(chǎn)品管理經(jīng)理Wayne McGee說(shuō)：“反射內(nèi)存是一項(xiàng)專有技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)局域網(wǎng)，局域網(wǎng)內(nèi)每臺(tái)計(jì)算機(jī)均始終具有共享內(nèi)存集的最新本地副本。這些專用網(wǎng)絡(luò)被專門設(shè)計(jì)用于實(shí)現(xiàn)高確定性數(shù)據(jù)通信，提供各種先進(jìn)、嚴(yán)苛的分布式仿真和工業(yè)控制應(yīng)用所需的緊湊時(shí)間性能。因此，反射內(nèi)存十分適合美國(guó)國(guó)家儀器公司的目標(biāo)應(yīng)用，可幫助NI獲得可持續(xù)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)?！?/p>

      美國(guó)國(guó)家儀器公司的資深實(shí)時(shí)測(cè)試平臺(tái)經(jīng)理Ian Fountain說(shuō)：“我們的業(yè)務(wù)旨在幫助工程師和科研人員更加高效地設(shè)計(jì)、制作原型和部署測(cè)試、控制和嵌入式設(shè)計(jì)應(yīng)用程序。我們的客戶不斷研發(fā)影響百萬(wàn)人的創(chuàng)新技術(shù)。為我們的NI VeriStand平臺(tái)加入GE反射內(nèi)存將有助于我們提供客戶需要的網(wǎng)絡(luò)性能和可靠性。”

      NI VeriStand是用于更加高效地創(chuàng)建實(shí)時(shí)測(cè)試應(yīng)用程序的軟件環(huán)境，容許配置執(zhí)行各種任務(wù)的多核實(shí)時(shí)引擎，這些任務(wù)包括：模擬量、數(shù)字量、通信總線和基于現(xiàn)場(chǎng)可編程門陣列（FPGA）的I/O接口；可觸發(fā)的多文件數(shù)據(jù)記錄；實(shí)時(shí)激勵(lì)生成；計(jì)算通道以及事件報(bào)警和報(bào)警響應(yīng)例程。

      GE反射內(nèi)存解決方案包括VME、PCI和PCI Express與PMC規(guī)格的節(jié)點(diǎn)，以及可實(shí)現(xiàn)反射內(nèi)存網(wǎng)絡(luò)最優(yōu)管理的反射內(nèi)存集線器。