三星、美光兩家存儲大廠擴(kuò)產(chǎn)!

時間:2024-06-25

來源:全球半導(dǎo)體觀察

導(dǎo)語:近期,行業(yè)消息顯示,為了應(yīng)對人工智能(AI)熱潮帶動存儲芯片需求提升,三星電子及美光均擴(kuò)產(chǎn)存儲芯片產(chǎn)能。三星方面,決定最快將于2024年第三季重啟建設(shè)新平澤工廠(P5)基礎(chǔ)建設(shè)。美光則正在美國愛達(dá)荷州博伊西的總部建設(shè)HBM測試產(chǎn)線與量產(chǎn)線,并首次考慮在馬來西亞生產(chǎn)HBM,以滿足人工智能熱潮帶來的更多需求。

近期,行業(yè)消息顯示,為了應(yīng)對人工智能(AI)熱潮帶動存儲芯片需求提升,三星電子及美光均擴(kuò)產(chǎn)存儲芯片產(chǎn)能。三星方面,決定最快將于2024年第三季重啟建設(shè)新平澤工廠(P5)基礎(chǔ)建設(shè)。美光則正在美國愛達(dá)荷州博伊西的總部建設(shè)HBM測試產(chǎn)線與量產(chǎn)線,并首次考慮在馬來西亞生產(chǎn)HBM,以滿足人工智能熱潮帶來的更多需求。

  三星重啟新平澤工廠(P5)

  外媒消息顯示,三星電子決定重啟新平澤工廠(P5)基礎(chǔ)建設(shè),預(yù)計最快將于2024第三季重啟建設(shè),完工時間推估為2027年4月,不過實際投產(chǎn)時間可能更早。

  此前報道顯示,該廠于1月底停工,三星彼時表示“這是協(xié)調(diào)進(jìn)度的臨時措施”,“投資尚未到位”。三星P5廠此番恢復(fù)建設(shè)的決定,行業(yè)多方解讀,更多認(rèn)為是為了應(yīng)對人工智能(AI)熱潮帶動存儲芯片需求提升,公司進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)能。

  據(jù)悉,三星P5工廠是一座擁有8個潔凈室的大型晶圓廠,而 P1 至 P4 則只有4個潔凈室。這使得三星電子滿足市場需求的大規(guī)模生產(chǎn)能力成為可能。但是目前,關(guān)于P5的具體用途還尚未有官方消息披露。

  據(jù)韓媒報道,業(yè)界消息稱,三星電子于5月30日召開了董事會內(nèi)部管理委員會會議,提交并通過了有關(guān)P5基礎(chǔ)建設(shè)的議程。管理委員會由首席執(zhí)行官兼DX部門負(fù)責(zé)人Jong-hee Han擔(dān)任主席,成員包括MX業(yè)務(wù)部門負(fù)責(zé)人Noh Tae-moon、管理支持總監(jiān)Park Hak-gyu和存儲業(yè)務(wù)部門負(fù)責(zé)人Lee Jeong-bae。

  三星公司擔(dān)任副總裁兼DRAM產(chǎn)品和技術(shù)主管Hwang Sang-joong 今年三月曾表示,預(yù)計今年HBM產(chǎn)量將是去年的2.9倍。同時,該公司公布了HBM路線圖,預(yù)計2026年HBM出貨量將是2023年產(chǎn)量的13.8倍,到2028年,HBM年產(chǎn)量將進(jìn)一步增至2023年水平的23.1倍。

  美光在美建設(shè)HBM測試產(chǎn)線與量產(chǎn)線

  6月19日,多家媒體消息顯示,美光正在美國愛達(dá)荷州博伊西的總部建設(shè)HBM測試產(chǎn)線與量產(chǎn)線,并首次考慮在馬來西亞生產(chǎn)HBM,以滿足人工智能熱潮帶來的更多需求。據(jù)悉,美光博伊西晶圓廠將于2025年上線投運,2026年啟動DRAM生產(chǎn)。

  美光此前宣布,計劃在一年后將其高帶寬內(nèi)存 (HBM) 市場份額從目前的“中個位數(shù)”提高到20%左右。截止目前,美光已在多地擴(kuò)建存儲產(chǎn)能。

  4月末,美光科技正式在其官網(wǎng)宣布,獲得美國《芯片與科學(xué)法案》61億美元政府補(bǔ)助。這些撥款以及額外的州和地方激勵措施將支持美光在愛達(dá)荷州建設(shè)一個領(lǐng)先的DRAM存儲器制造工廠,并在紐約州克萊鎮(zhèn)建設(shè)兩座先進(jìn)DRAM存儲器制造工廠。

  位于愛達(dá)荷州的工廠已于2023年10月開工。美光表示,該廠預(yù)計將于 2025年上線并投入運營,2026年正式開始DRAM的生產(chǎn),DRAM產(chǎn)量也將隨著行業(yè)需求的增長而不斷增加。紐約項目則正在進(jìn)行初步設(shè)計、實地研究和包括NEPA在內(nèi)的許可申請。該座晶圓廠的建設(shè)預(yù)計將于2025年開始,并于2028年投產(chǎn)并貢獻(xiàn)產(chǎn)量,并根據(jù)未來十年的市場需求而增加。新聞稿表示,美國政府的補(bǔ)貼將支持美光計劃到2030年為美國國內(nèi)領(lǐng)先的存儲器制造,投資約500億美元的總資本支出。

  今年5月日媒《日刊工業(yè)新聞》消息稱,美光將斥資6000~8000億日元在日本廣島興建一座采用極紫外光(EUV)微影制程的先進(jìn)DRAM芯片廠,預(yù)計2026年初動工、最快2027年底完工。此前,日本已批準(zhǔn)多達(dá)1920億日元補(bǔ)貼,支持美光在廣島建廠并生產(chǎn)新一代芯片。

  據(jù)悉,美光在廣島的新工廠位于現(xiàn)有的Fab 15附近,專注于DRAM生產(chǎn),不包括后端封裝和測試,并將重點放在HBM產(chǎn)品上。

  馬來西亞建廠方面,2023年10月,美光在馬來西亞檳城的第二座智能(尖端組裝與測試)工廠落成開業(yè),該工廠初期投入了10億美元。在第一座工廠建成后,美光再加碼10億美元擴(kuò)建第二座智慧廠房,將工廠建筑面積擴(kuò)充至150萬平方尺。

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