意法半導體與Soitec的下個目標:8英寸碳化硅襯底!

時間:2022-12-05

來源:化合物半導體市場

導語:從6英寸晶圓過渡到8英寸晶圓將大幅提高產(chǎn)能,制造集成電路的有用面積提升幾乎兩倍,每個晶圓可以提升1.8-1.9倍的工作芯片。

        12月1日,據(jù)報道,意法半導體和Soitec宣布下一階段的碳化硅(SiC)襯底合作,意法半導體計劃在未來18個月內(nèi)對Soitec的SiC襯底技術(shù)進行認證。

  此次合作的目標是意法半導體在未來的8英寸襯底制造中采用Soitec的SmartSiC?技術(shù),為其器件和模塊制造業(yè)務(wù)提供動力,預(yù)計將在中期量產(chǎn)。

  “向8英寸SiC晶圓的過渡將為我們的汽車和工業(yè)客戶帶來巨大的優(yōu)勢,因為他們加速了向系統(tǒng)和產(chǎn)品電氣化的過渡?!耙夥ò雽w汽車和分立器件業(yè)務(wù)部總裁Marco Monti表示。

  “隨著電動汽車的出現(xiàn),汽車行業(yè)正面臨重大顛覆。我們尖端的SmartSiC?技術(shù)使我們獨特的SmartCut?工藝適應(yīng)碳化硅半導體,將在加速其采用方面發(fā)揮關(guān)鍵作用,“Soitec首席運營官Bernard Aspar說。Soitec的SmartSiC?襯底與意法半導體業(yè)界領(lǐng)先的碳化硅技術(shù)和專業(yè)知識相結(jié)合,將改變汽車芯片制造的游戲規(guī)則,樹立新的標準。

  SiC是一種具有內(nèi)在特性的顛覆性化合物半導體材料,在電動汽車和工業(yè)流程等關(guān)鍵、高增長的功率應(yīng)用中提供優(yōu)于硅的性能和效率。它可實現(xiàn)更高效的電源轉(zhuǎn)換、更輕、更緊湊的設(shè)計,并節(jié)省整體系統(tǒng)設(shè)計成本,這些都是汽車和工業(yè)系統(tǒng)成功的關(guān)鍵參數(shù)和因素。

  從6英寸晶圓過渡到8英寸晶圓將大幅提高產(chǎn)能,制造集成電路的有用面積提升幾乎兩倍,每個晶圓可以提升1.8-1.9倍的工作芯片。

  值得注意的是,今年10月,意法半導體表示將在意大利建造一座價值7.3億歐元(約合人民幣50.28億元),年產(chǎn)超過37萬片的襯底項目,借此實現(xiàn)40%碳化硅襯底的自主供應(yīng)。

  此前,為了提高歐洲的生產(chǎn)能力,歐盟推出了《芯片法案》,歐盟擬動用超過430億歐元的公共和私有資金,用于支持芯片生產(chǎn)、試點項目和初創(chuàng)企業(yè)。通過增加投資、加強研發(fā),擴大歐盟芯片產(chǎn)能在全球市場占比,并防止對國際市場過度依賴。

  意法半導體表示,新的集成SiC襯底制造設(shè)施將滿足汽車和工業(yè)客戶在向電氣化過渡期間不斷增長的需求。這項為期五年的投資將于2026年完成,將得到意大利2.925億歐元的公共資金的支持,作為該國國家恢復(fù)和復(fù)原計劃的一部分,并獲得歐盟委員會的批準。

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