全球半導(dǎo)體設(shè)備市場銷售規(guī)模

中投產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2021-2025年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)深度調(diào)研及投資前景預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示，半導(dǎo)體行業(yè)整體景氣度降低，影響了存儲(chǔ)制造商的資本投資，2019年半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)也受到一定沖擊。2019年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額為597.5億美元，較2018年下降了7.41%。

圖表　2014-2019年全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售情況

數(shù)據(jù)來源：美國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)（SIA） 振工鏈整理

全球半導(dǎo)體設(shè)備市場呈現(xiàn)高度壟斷的競爭格局，主要由國外廠商主導(dǎo)。2019年前四大半導(dǎo)體設(shè)備制造廠商，憑借資金、技術(shù)、客戶資源、品牌等方面的優(yōu)勢(shì)，占據(jù)了全球半導(dǎo)體設(shè)備市場69.85%的市場份額。其中阿斯麥在光刻機(jī)設(shè)備方面形成寡頭壟斷。應(yīng)用材料、東京電子和泛林半導(dǎo)體是等離子體刻蝕和薄膜沉積等半導(dǎo)體工藝設(shè)備的三強(qiáng)。

中國半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模

中投產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2021-2025年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)深度調(diào)研及投資前景預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示，2019年中國半導(dǎo)體設(shè)備銷售額為134.5億美元，同比增長2.59%，市場規(guī)模繼續(xù)位居全球次席。

圖表　2012-2019年中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額及增速

數(shù)據(jù)來源：國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)（SEMI） 振工鏈整理

2020年一季度行業(yè)實(shí)現(xiàn)規(guī)模35億元，較2019年同期增長48%，可見我國半導(dǎo)體設(shè)備在2020年初的新冠肺炎事件中受到的影響并不顯著。

光刻機(jī)市場發(fā)展現(xiàn)狀

根據(jù)中投產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2021-2025年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)深度調(diào)研及投資前景預(yù)測(cè)報(bào)告》，2019年全球半導(dǎo)體、面板、LED用光刻機(jī)出貨約550臺(tái)，較2018年減少50臺(tái)。其中半導(dǎo)體前道制造用光刻機(jī)出貨約360臺(tái)；半導(dǎo)體封裝、面板、LED用光刻機(jī)出貨約190臺(tái)。2019年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨354臺(tái)，跌幅為4%。2020年第一季度，全球光刻機(jī)top3企業(yè)銷售量實(shí)現(xiàn)85臺(tái)。

圖表　2014-2020年全球光刻機(jī)TOP3企業(yè)半導(dǎo)體光刻機(jī)銷量統(tǒng)計(jì)

單位：臺(tái)

數(shù)據(jù)來源：ASML、Canon、Nikon財(cái)報(bào)  振工鏈整理

中投產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2021-2025年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)深度調(diào)研及投資前景預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示，從細(xì)分市場來看，近年來，市場上銷售的光刻機(jī)主要為EUV光刻機(jī)、ArFlm光刻機(jī)、ArFDry光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)和i-line光刻機(jī)。從2019年這五類光刻機(jī)的銷量情況來看，i-line光刻機(jī)的銷量最高，為116臺(tái)。在這116臺(tái)中，Canon公司貢獻(xiàn)了一半以上。

從企業(yè)的角度來看，Canon主要的光刻機(jī)銷售都集中在i-line光刻機(jī)這一類型；Nikon的光刻機(jī)銷售則縱向跨度較大，在除EUV之外的類型均有涉及，其中以Arf和i-line的領(lǐng)域較為突出；ASML則在除i-line光刻機(jī)之外的領(lǐng)域均具有較強(qiáng)的統(tǒng)治力。

圖表　2019年ASML、Nikon和Canon光刻機(jī)細(xì)分產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

數(shù)據(jù)來源：ASML、Canon、Nikon年報(bào)  振工鏈整理