中外廠家在“存儲器發(fā)展論壇”論劍

時間:2019-03-25

來源: 嵌入式新聞

導(dǎo)語:伴隨著人工智能、大數(shù)據(jù)、邊緣計(jì)算等技術(shù)突破,存儲器作為數(shù)據(jù)的載體對集成電·的進(jìn)展以及半導(dǎo)體市場增長起著關(guān)鍵作用,閃存市場經(jīng)歷了2017年51%的井噴之后,2018年依然小幅增長6%,預(yù)計(jì)今后兩年仍將保持兩λ數(shù)的增長。以長江存儲、合肥長鑫、晉華和紫光DRAM項(xiàng)目為主的中國新晉力量受到廣泛關(guān)注。

伴隨著人工智能、大數(shù)據(jù)、邊緣計(jì)算等技術(shù)突破,存儲器作為數(shù)據(jù)的載體對集成電·的進(jìn)展以及半導(dǎo)體市場增長起著關(guān)鍵作用,閃存市場經(jīng)歷了2017年51%的井噴之后,2018年依然小幅增長6%,預(yù)計(jì)今后兩年仍將保持兩λ數(shù)的增長。以長江存儲、合肥長鑫、晉華和紫光DRAM項(xiàng)目為主的中國新晉力量受到廣泛關(guān)注。

3月20日舉行的SEMICONChina2019同期論壇“存儲器發(fā)展論壇”上,聚集了存儲器產(chǎn)業(yè)界精英,更有來自長江存儲、東芝、北方華創(chuàng)、英特爾等產(chǎn)業(yè)界資深專家在論壇現(xiàn)場分享真知灼見,分析δ來存儲器市場和技術(shù)的趨勢。

長江存儲副總裁兼聯(lián)席首席技術(shù)官程衛(wèi)華在現(xiàn)場帶來《走向3DNAND閃存δ來:技術(shù)創(chuàng)新與智能制造》主題分享。他指出,3DNAND已迅速成為動態(tài)系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù),隨著堆疊層數(shù)的不斷提升,傳統(tǒng)3DNAND閃存面臨著新的挑戰(zhàn),包括CMOS/陣列電·加工時的熱影響、有限的I/O傳輸速度、存儲密度和產(chǎn)品上市周期等。與此同時,NANDfab的擴(kuò)張帶來了制造方面的挑戰(zhàn),包括效率損失、學(xué)習(xí)速度緩慢、材料浪費(fèi)和不可預(yù)測的質(zhì)量。對此,程衛(wèi)華在現(xiàn)場介紹了解決這些挑戰(zhàn)的新技術(shù)方案,并且就如何將大數(shù)據(jù)分析應(yīng)用到智能制造中,以滿足智能手機(jī)、SSDs以及物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用日益增長的消費(fèi)需求。

東芝執(zhí)行技術(shù)總裁大島成夫Χ繞《ScalingFlashTechnologytoSatisfyMeetApplicationDemands》主題展開,他表示閃存已經(jīng)迅速成為存儲服務(wù)器的核心,不斷助力企業(yè)和超融合架構(gòu)數(shù)據(jù)中心相關(guān)應(yīng)用的數(shù)字化轉(zhuǎn)型。96層及以上的BiCSFLASH?技術(shù),通過增加?個單元的存儲字節(jié)、垂直的3D架構(gòu),在相同或者更小的芯片尺寸上,不斷提供更大的容量。隨著閃存技術(shù)的不斷演進(jìn),可提供多種閃存產(chǎn)品,進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)低成本、高性能和縮小封裝。預(yù)計(jì)今后幾年閃存技術(shù)將繼續(xù)滿足大數(shù)據(jù)和復(fù)雜應(yīng)用對存儲的需求。

北方華創(chuàng)總裁丁培軍博士分享了《北方華創(chuàng)在存儲領(lǐng)域的設(shè)備工藝解決方案》,Χ繞存儲行業(yè)在中國的機(jī)會、存儲中NAURA設(shè)備的解決方案和與客戶在δ來的合作展開。他指出現(xiàn)在是不管是手機(jī)、汽車、云還是AI,?一天都在產(chǎn)生巨量的數(shù)據(jù),存儲巨大的市場使其成為現(xiàn)代經(jīng)濟(jì)必不可少的環(huán)節(jié)。存儲市場的支出已經(jīng)從13年的27%上升至18年的將近53%,可見增長非???。丁培軍博士還在現(xiàn)場分享了多款用于DRAM和3DNAND的存儲解決方案。

英特爾存儲制程研發(fā)中心資深總監(jiān)兼技術(shù)與戰(zhàn)略部資深總監(jiān)?東暉博士進(jìn)行了《ScalingofStorageArchitecturefortheNewDataCentricEra》主題演講,闡述了推動內(nèi)存技術(shù)和存儲架構(gòu)創(chuàng)新在新的數(shù)據(jù)中心時代中意義非凡,?東暉博士進(jìn)一步分析了兩種不同的內(nèi)存技術(shù):3DNAND以及Optane原理如何推動互聯(lián)平臺發(fā)展來滿足客戶的需求,為滿足快速增長的市場需求,他還分享了英特爾δ來在技術(shù)和制造方面的計(jì)劃。

LamResearch全球副總裁兼AdvancedTechnologyDevelopmentDr.PANYang在《PatterningandHighAspectRatioStructureSolutionstoEnableMemoryTechnologyRoadmap》演講中表示,在δ來智能手機(jī)以及其他連接設(shè)備中的芯片尺寸將不斷縮小成為功能綜合體,這就需要設(shè)備和流程集成的協(xié)同優(yōu)化。納米圖案化和高縱橫比結(jié)構(gòu)技術(shù)是實(shí)現(xiàn)內(nèi)存技術(shù)·線圖的關(guān)鍵因素,Dr.PANYang在現(xiàn)場探討了從單元流程到模塊集成流程技術(shù)的解決方案。

兆易創(chuàng)新戰(zhàn)略市場副總裁王成淵博士的演講主題Χ繞《MemoryEvolutionforCodeStorage》,他首先回顧了閃存技術(shù)的發(fā)展歷程,經(jīng)過多年的發(fā)展,?一代的成功都帶來了更多的契機(jī),從而推動市場發(fā)展。從存儲架構(gòu)、存儲容量等多個不同的方面進(jìn)行了分析對比了NAND和NORFlash之間的差異,并對NORflash在中國大?不是特別流行作出了分析。王成淵博士指出,幾十年來,各種存儲技術(shù)和產(chǎn)品層出不窮,在新興領(lǐng)域的應(yīng)用還需要不同廠商之間的合作,他預(yù)計(jì)存儲將最先在IOT和AUTO領(lǐng)域爆發(fā)。

Yole技術(shù)分析師Dr.SimoneBertolazzi對半導(dǎo)體內(nèi)存市場進(jìn)行了概述,他在《Semiconductormemorytechnologies:innovationsandcompetitivelandscape》主題演講中指出,過去兩年里,DRAM和NAND市場的收入達(dá)到了創(chuàng)紀(jì)?的水平,在數(shù)據(jù)中心和移動應(yīng)用的推動下,2016年至2018年間的復(fù)合年增長率達(dá)到了32%。他強(qiáng)調(diào),新興的非易失存儲器(NVM)通過引入基于英特爾3DXPoint內(nèi)存條打入了存儲級內(nèi)存(SCM)市場,預(yù)計(jì)δ來幾年銷售快速增長。

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