中微5nm刻蝕機(jī)通過(guò)臺(tái)積電認(rèn)證

時(shí)間:2018-12-18

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導(dǎo)語(yǔ):5納米,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑(約0.1毫米)的二萬(wàn)分之一,將成為集成電路芯片上的最小線寬。

5納米,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑(約0.1毫米)的二萬(wàn)分之一,將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺(tái)積電計(jì)劃明年進(jìn)行5納米制程試產(chǎn),預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)。最近,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司收到一個(gè)好消息:其自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證,性能優(yōu)良,將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線??涛g機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵裝備之一,中微突破關(guān)鍵核心技術(shù),讓“上海制造”躋身刻蝕機(jī)國(guó)際第一梯隊(duì)。

走進(jìn)位于金橋出口加工區(qū)的中微公司,就要換上公司提供的皮鞋,這家精密制造企業(yè)要求一塵不染。在潔凈室門(mén)外,記者看到身穿白色工作服,戴著白帽子、口罩和手套的研發(fā)人員,正在測(cè)試一臺(tái)大型設(shè)備,它就是全球屈指可數(shù)的5納米刻蝕機(jī)。只見(jiàn)一片片300毫米大硅片被機(jī)械手抓起,放入真空反應(yīng)腔內(nèi),開(kāi)始了它們的刻蝕之旅?!岸喾N氣體會(huì)進(jìn)入真空反應(yīng)腔,經(jīng)過(guò)化學(xué)反應(yīng)變成等離子氣體,隨即產(chǎn)生帶電粒子和自由基,與硅片發(fā)生化學(xué)物理反應(yīng)?!敝形⑹紫瘜<摇⒏笨偛媚邎D強(qiáng)說(shuō),這些化學(xué)物理反應(yīng)在硅片上開(kāi)槽打洞,形成令人嘆為觀止的微觀結(jié)構(gòu),一塊指甲蓋大小的芯片可集成60多億個(gè)晶體管。

方寸間近乎極限的操作,對(duì)刻蝕機(jī)的控制精度提出很高要求??涛g尺寸的大小與芯片溫度一一對(duì)應(yīng),中微自主研發(fā)的部件使刻蝕過(guò)程的溫控精度保持在0.75攝氏度內(nèi),達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。氣體噴淋盤(pán)是刻蝕機(jī)的核心部件之一,中微和國(guó)內(nèi)企業(yè)聯(lián)合開(kāi)發(fā)出一套創(chuàng)新工藝,用這套工藝制造的金屬陶瓷,其晶粒十分精細(xì)、致密。與進(jìn)口噴淋盤(pán)相比,國(guó)產(chǎn)陶瓷鍍膜的噴淋盤(pán)使用壽命延長(zhǎng)一倍,造價(jià)卻不到五分之一。

創(chuàng)新成功的秘訣是什么?秘訣之一是超前布局研發(fā)。2004年中微創(chuàng)立時(shí),全球最先進(jìn)的芯片生產(chǎn)線是90納米制程,那時(shí)他們就開(kāi)始研發(fā)40納米刻蝕機(jī),因?yàn)榧呻娐樊a(chǎn)業(yè)技術(shù)迭代很快,超前兩代研發(fā)才能掌握主動(dòng)權(quán)。擁有國(guó)際化團(tuán)隊(duì),也是一個(gè)成功原因。經(jīng)過(guò)本土培養(yǎng)和海外引進(jìn),中微600多名員工來(lái)自十多個(gè)國(guó)家和地區(qū)。而且公司研發(fā)團(tuán)隊(duì)很完整,200多人的專業(yè)覆蓋30多門(mén)學(xué)科,為刻蝕機(jī)研發(fā)這一系統(tǒng)工程奠定了基礎(chǔ)。

憑借自主創(chuàng)新,中微已申請(qǐng)1200多件國(guó)內(nèi)外專利?!耙?yàn)橛写罅繉@Wo(hù),我們經(jīng)歷4次與發(fā)達(dá)國(guó)家企業(yè)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)訴訟,未嘗敗績(jī)?!惫靖笨偛貌軣捝f(shuō)。如今,中微與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)一起,組成了國(guó)際第一梯隊(duì),為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)。明年,臺(tái)積電將率先進(jìn)入5納米制程,已通過(guò)驗(yàn)證的國(guó)產(chǎn)5納米刻蝕機(jī)預(yù)計(jì)會(huì)獲得比7納米生產(chǎn)線更大的市場(chǎng)份額。

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