隨著許多新技術(shù)的涌現(xiàn),下一代存儲(chǔ)器市場(chǎng)正在升溫,但將這些產(chǎn)品引入主流市場(chǎng)仍面臨著一些挑戰(zhàn)。
多年來,業(yè)界一直致力于各種存儲(chǔ)技術(shù)的研究,包括碳納米管RAM、FRAM、MRAM、相變存儲(chǔ)器,以及ReRAM。有些已經(jīng)出貨,有些尚在研發(fā)。每種存儲(chǔ)器類型都不同,并且針對(duì)特定的應(yīng)用,但它們都承諾取代當(dāng)今分級(jí)存儲(chǔ)器體系中的一種或多種傳統(tǒng)存儲(chǔ)器。
在分級(jí)存儲(chǔ)器體系的第一層中,SRAM集成到處理器中以支持快速數(shù)據(jù)訪問。DRAM是體系結(jié)構(gòu)中的下一層,用于主存儲(chǔ)器。磁盤驅(qū)動(dòng)器和基于NAND的固態(tài)存儲(chǔ)驅(qū)動(dòng)器(SSD)用于存儲(chǔ)。
圖1:分級(jí)存儲(chǔ)器體系——DRAM/SRAM和flash具有相反的特性,這些特性留下了由存儲(chǔ)類存儲(chǔ)器填充的空白。(來源:LamResearch)
今天的存儲(chǔ)器類型可以勝任各項(xiàng)工作,但它們正在掙扎地追趕系統(tǒng)中數(shù)據(jù)和帶寬需求的爆炸性增長(zhǎng)。例如,DRAM速度快但耗電量大,而NAND和硬盤驅(qū)動(dòng)器很便宜,但速度慢。
這正是下一代存儲(chǔ)器的用武之地。新的存儲(chǔ)器類型結(jié)合了SRAM的速度和flash的非易失性,具有無限的耐用性。這些技術(shù)擁有一些令人印象深刻的規(guī)格,但它們要么被推遲,要么未能實(shí)現(xiàn)承諾,亦或兩者兼而有之。
事實(shí)上,將許多新的存儲(chǔ)器類型投入大規(guī)模生產(chǎn)一直是一個(gè)難題。這些存儲(chǔ)器依賴于奇異的材料和轉(zhuǎn)換機(jī)制,使得它們難以在現(xiàn)場(chǎng)制造和工作,而且非常昂貴。
總之,新的存儲(chǔ)器仍然是利基產(chǎn)品,但在競(jìng)技場(chǎng)上有一些明顯的進(jìn)步。例如,英特爾正在推出名為3DXPoint的下一代內(nèi)存。隨后,GlobalFoundries、三星、臺(tái)積電和聯(lián)華電子正在為嵌入式市場(chǎng)開發(fā)新的存儲(chǔ)器類型。ObjectiveAnalysis的分析師JimHandy表示:“真正重要的是,邏輯晶圓廠正在為嵌入式存儲(chǔ)器開發(fā)MRAM和電阻式RAM。對(duì)于獨(dú)立的存儲(chǔ)器市場(chǎng)而言,成本很高。這使得它只能吸引那些愿意出大價(jià)錢的人,因?yàn)樗麄儫o法在其他地方獲得他們想要的東西?!?/p>
因此,傳統(tǒng)存儲(chǔ)器仍然是系統(tǒng)中的主流產(chǎn)品,但新的存儲(chǔ)器類型提供了一些選擇。為了幫助讀者走在時(shí)代前列,SemiconductorEngineering對(duì)下一代存儲(chǔ)器的現(xiàn)狀進(jìn)行了研究。
3DXPoint的崛起
3DXPoint花了很長(zhǎng)時(shí)間,但幾款下一代存儲(chǔ)器正在崛起。每一種新的存儲(chǔ)器都有一些有趣的特性,聲稱它們可以勝過傳統(tǒng)存儲(chǔ)器。
不過,至少目前而言,新存儲(chǔ)器不太可能取代DRAM、flash和SRAM。
這一切都?xì)w結(jié)于性能、密度和成本。例如,給定存儲(chǔ)器的單元大小等于特征(F)大小的平方乘以4,那么最小的單元尺寸是4F2。最新的3DNAND器件每個(gè)單元存儲(chǔ)4位(QLC),理論上可以轉(zhuǎn)換為1F2的單元大小。
“如果你想取代NAND,就必須比1F2便宜。據(jù)我所知,我們?cè)谟猩瓴粫?huì)看到這種情況?!盢antero公司碳納米管RAM資深開發(fā)人員和董事會(huì)成員EdDoller表示。
為了取代DRAM,新的存儲(chǔ)器類型必須更便宜,而且它周圍必須有完整的基礎(chǔ)構(gòu)造,例如DRAM兼容接口和控制器。
因此,如果新的存儲(chǔ)器類型無法取代傳統(tǒng)技術(shù),那么它們會(huì)適用在哪里呢?LamResearch高級(jí)技術(shù)總監(jiān)AlexYoon在一篇博客中表示:“云計(jì)算和最新的移動(dòng)產(chǎn)品等應(yīng)用正在推動(dòng)對(duì)一種新的存儲(chǔ)器類別的需求,它將DRAM的速度與NAND更高的比特密度和更低的成本結(jié)合起來。為了達(dá)到這些標(biāo)準(zhǔn),一些新技術(shù)正在探索中。一些公司瞄準(zhǔn)的是嵌入式應(yīng)用,如片上系統(tǒng)(SoC),而另一些公司則專注于存儲(chǔ)級(jí)別的存儲(chǔ)器領(lǐng)域?!?/p>
目前,新的存儲(chǔ)器類型已經(jīng)在分級(jí)存儲(chǔ)器體系中開辟出了今天的存儲(chǔ)器無法滿足的利基。有些甚至?xí)屪逥RAM和flash的少量份額。但目前尚不清楚新的存儲(chǔ)器類型是否會(huì)成為主流技術(shù)。
目前還沒有一種新的存儲(chǔ)器技術(shù)能夠滿足所有的需求,因此隨著時(shí)間的推移,客戶可能會(huì)使用一種或多種存儲(chǔ)器技術(shù)。ReRAM供應(yīng)商Crossbar營(yíng)銷和業(yè)務(wù)開發(fā)副總裁SylvainDubois表示:“它們都有自己的位置。在某些情況下,它們是半競(jìng)爭(zhēng)的,有一些重疊。但很明顯,我們都有不同的定位?!?/p>
圖2:分級(jí)存儲(chǔ)器體系。(來源:Imec)
不過,有一項(xiàng)技術(shù)正在取得進(jìn)展。市場(chǎng)的巨大變化是最近由英特爾和美光開發(fā)的下一代技術(shù)3DXPoint的崛起。
當(dāng)3DXPoint于2015年正式推出時(shí),該技術(shù)被吹捧為介于DRAM和NAND之間的存儲(chǔ)類存儲(chǔ)器,它會(huì)比NAND快1000倍,耐用性高1000倍。
但實(shí)際上,3DXPoint已被推遲,并且未能達(dá)到這些規(guī)格。咨詢公司MKWVentures的負(fù)責(zé)人MarkWebb表示:“我們知道,在現(xiàn)實(shí)中,很多事情都被過度炒作了?,F(xiàn)實(shí)是不同的,但仍然相當(dāng)驚人。3DXPoint的收入將超過其他所有新的非易失性存儲(chǔ)器?!?/p>
事實(shí)上,在幾經(jīng)推遲之后,英特爾正在升級(jí)基于3DXPoint的SSD和其他產(chǎn)品。最終,英特爾將在DIMM中將該技術(shù)用于服務(wù)器。Webb說:“使用3DXPoint,英特爾會(huì)擁有最耐用且最快的SSD。DIMM被推遲了?!?/p>
MKW預(yù)計(jì),3DXPoint的銷售額將從不久前的0增長(zhǎng)到2018年的7.5億美元。MKW的數(shù)據(jù)顯示,到2020年,3DXPoint的收入預(yù)計(jì)將達(dá)到15億美元。
相比之下,根據(jù)CoughlinAssociates和ObjectiveAnalysis的報(bào)告,MRAM在2017年的營(yíng)業(yè)額為3600萬美元。其他存儲(chǔ)器類型幾乎沒有出現(xiàn)。
與DRAM和NAND相比,新的存儲(chǔ)器顯得很蒼白。據(jù)ICInsights預(yù)計(jì),DRAM市場(chǎng)在2018年有望達(dá)到1016億美元,NAND將達(dá)到4280億美元。
與此同時(shí),3DXPoint基于一種稱為相變存儲(chǔ)器(PCM)的技術(shù)。PCM以非晶相和結(jié)晶相存儲(chǔ)信息。它可以通過外部電壓進(jìn)行可逆切換。
3DXPoint器件基于雙層堆疊架構(gòu),采用20nm幾何尺寸,具有128GB的密度。根據(jù)MKW的數(shù)據(jù),讀取延遲大約為125ns,耐用性為200K次擦寫。
圖3:3DXPoint架構(gòu)(來源:維基百科)
這項(xiàng)技術(shù)存儲(chǔ)速度很快,但并不是NAND的1000倍。Webb說:“它的成本也遠(yuǎn)高于NAND,它不是DRAM的替代品,而是DRAM的補(bǔ)充?!?/p>
3DXPoint的下一步是什么?重大機(jī)遇在DIMM領(lǐng)域。當(dāng)DIMM最終來自英特爾時(shí),它將集成3DXPoint和DRAM。Webb說:“英特爾可以充分利用3DXPoint的性能特點(diǎn)來優(yōu)化處理器和架構(gòu)?!?/p>
不過,這項(xiàng)技術(shù)的未來仍不確定。英特爾和美光正在分別開發(fā)3DNAND和3DXPoint。如前所述,兩家公司將完成兩個(gè)類別的現(xiàn)有產(chǎn)品,然后各自追求這些技術(shù)。
目前還不清楚美光是否會(huì)推出3DXPoint器件。到目前為止,美光尚未發(fā)布3DXPoint產(chǎn)品,因?yàn)樵摷夹g(shù)似乎會(huì)與它的DRAM和NAND產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)。
顯然,英特爾有資源獨(dú)自走3DXPoint路線。但問題是英特爾能否用這項(xiàng)技術(shù)收回其龐大的研發(fā)投資。
MRAMvsReRAM
與此同時(shí),業(yè)界也在開發(fā)其他新的存儲(chǔ)器類型,例如MRAM和ReRAM。與3DXPoint一樣,MRAM和ReRAM可以作為獨(dú)立器件生產(chǎn)和銷售。
3DXPoint不作為嵌入式存儲(chǔ)器出售。相比之下,MRAM和ReRAM也可用于嵌入式存儲(chǔ)器市場(chǎng)。
對(duì)于MRAM,業(yè)界正在開發(fā)一種下一代技術(shù),自旋傳遞轉(zhuǎn)矩MRAM(STT-MRAM)。STT-MRAM利用電子自旋的磁性為芯片提供非易失性。它結(jié)合了SRAM的速度和flash的非易失性,具有無限的耐用性。
圖4:STT-MRAM存儲(chǔ)單元。(來源:MRAM-Info)
傳統(tǒng)存儲(chǔ)器中,數(shù)據(jù)以電荷的形式存儲(chǔ)。相比之下,MRAM使用磁隧道結(jié)(MTJ)作為存儲(chǔ)單元。
MTJ由內(nèi)存堆疊組成,可以為給定的應(yīng)用重新配置。但是在調(diào)整MTJ堆疊時(shí),在耐久性、數(shù)據(jù)保持和寫入脈沖寬度方面存在一些折衷。Everspin公司工程副總裁TomAndre表示:“在MTJ堆疊的設(shè)計(jì)中,存在固有的權(quán)衡取舍。例如,你可以通過放棄數(shù)據(jù)保持來優(yōu)化堆疊的耐用性,反之亦然?!?/p>
Andre說:“這允許你以不同的方式處理不同的應(yīng)用。例如,如果你正在做嵌入式MRAM,并且你正在嘗試構(gòu)建用于代碼存儲(chǔ)的嵌入式NVM,那么提高數(shù)據(jù)保持能力、放棄耐久性非常適合這個(gè)應(yīng)用。對(duì)于我們Everspin公司的獨(dú)立部分而言,權(quán)衡的結(jié)果是相反的。我們致力于為這些循環(huán)寫緩沖區(qū)類型的解決方案提供耐久性更強(qiáng)的應(yīng)用?!?/p>
STT-MRAM還有別的優(yōu)點(diǎn),也有一些缺點(diǎn)。MKW公司的Webb說:“MRAM在速度上很好,但在成本和密度上無法競(jìng)爭(zhēng)。此外,STT-MRAM比之前認(rèn)為的更難以制造,因此限制了該技術(shù)在市場(chǎng)上的出貨量?!?/p>
迄今為止,Everspin是唯一一家出貨基于STT-MRAM的獨(dú)立部件的公司。Everspin正在推出基于40nm的256MB器件,基于28nm的1GB器件也在開發(fā)中。Avalanche、Crocus、三星、東芝、SK海力士、SpinTransfer等公司也在研發(fā)STT-MRAM,但尚未投入生產(chǎn)。
AppliedMaterials公司工藝開發(fā)總經(jīng)理MahendraPakala表示:“當(dāng)我比較磁性與半導(dǎo)體工藝時(shí),我會(huì)說學(xué)習(xí)曲線非常大。學(xué)習(xí)曲線需要時(shí)間。這是最大的問題。對(duì)于嵌入式市場(chǎng),則有足夠的臨界質(zhì)量。我會(huì)進(jìn)一步對(duì)此進(jìn)行論述。”
實(shí)際上,嵌入式MRAM的發(fā)展勢(shì)頭正在增強(qiáng)。GlobalFoundries、三星、臺(tái)積電和聯(lián)華電子正在為28nm/22nm的代工客戶開發(fā)嵌入式MRAM。
在嵌入式市場(chǎng)中,行業(yè)普遍使用微控制器MCU。MCU在同一芯片上集成了多個(gè)組件,例如CPU、SRAM、嵌入式存儲(chǔ)器和外設(shè)。嵌入式存儲(chǔ)器(如NORflash)用于代碼存儲(chǔ)。
基于40nm及以上的嵌入式NORflash的MCU正在出貨?,F(xiàn)在,業(yè)界正在提升28nmMCU產(chǎn)量,16nm/14nmMCU正在研發(fā)中。
問題是,在28nm及更大范圍內(nèi)擴(kuò)展嵌入式flash(有時(shí)稱為eFlash)是很困難的。聯(lián)華電子產(chǎn)品營(yíng)銷總監(jiān)DavidHideoUriu表示:“許多人認(rèn)為28nm/22nm將是eFlash的終結(jié),不是因?yàn)槲⒖s的限制,而是因?yàn)榻?jīng)濟(jì)障礙。你能將嵌入式flash微縮到28nm以及更先進(jìn)嗎?答案是肯定的,因?yàn)槲覀儗⒃?2nm節(jié)點(diǎn)支持它。但是宏觀設(shè)計(jì)本質(zhì)上和我們的28nm是一樣的?!?/p>
DavidHideoUriu表示:“超越28nm/22nm之后,eFlash在前端工藝流程中需要超過15個(gè)掩模加法器。額外的掩模加法器制造了經(jīng)濟(jì)障礙,挑戰(zhàn)了代工行業(yè),無論是尋求替代非易失性存儲(chǔ)器,還是繼續(xù)投資額外的資源以推動(dòng)現(xiàn)有eFlash技術(shù)邊界?!?/p>
因此,嵌入式MRAM正在被開發(fā),以取代28nm及以上的嵌入式NORflash。GlobalFoundries公司前沿CMOS副總裁MikeMendicino說:“嵌入式MRAM功耗低,寫入快,嵌入式NORflash要慢得多?!?/p>
例如,低功耗單片機(jī)可能需要快速喚醒和安全功能。Mendicino說:“MRAM可以取代傳統(tǒng)的嵌入式flash,也可以替代一些SRAM。”
對(duì)于高速緩存,SRAM占據(jù)了芯片的很大一部分。嵌入式MRAM還可以承擔(dān)一些基于SRAM的緩存功能,從而節(jié)省空間和成本。Mendicino說:“MRAM本身可以在這些器件上節(jié)省電能。但如果你把一個(gè)真正優(yōu)秀的MRAM放到一個(gè)平庸的平臺(tái)上,那就毫無價(jià)值?!?/p>
然而,嵌入式MRAM仍然存在一些挑戰(zhàn),即把技術(shù)集成到設(shè)計(jì)中的能力。成本是另一個(gè)因素。聯(lián)華電子的DavidHideoUriu表示:“客戶希望新興的嵌入式非易失性存儲(chǔ)器的成本與eFlash一樣具有成本效益。這種期望給代工行業(yè)帶來了另一項(xiàng)挑戰(zhàn),并且難以實(shí)現(xiàn),但解決方案應(yīng)該能夠利用當(dāng)前的成本點(diǎn)保持當(dāng)前的價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)水平。”
同時(shí),電阻式RAM(ReRAM)也在不斷發(fā)展,但尚未達(dá)到3DXPoint和MRAM的水平。通常,ReRAM有兩種類型——氧空缺ReRAM和CBRAM。
在這兩種情況下,開關(guān)介質(zhì)位于頂部和底部電極之間。當(dāng)在頂部電極上施加正電壓時(shí),在兩個(gè)電極之間形成導(dǎo)電細(xì)絲。導(dǎo)電細(xì)絲由離子原子組成。當(dāng)在底部電極上施加負(fù)壓時(shí),導(dǎo)電細(xì)絲就會(huì)斷裂。
圖5:ReRAM工作原理(來源:Adesto)
ReRAM涉及一個(gè)復(fù)雜的過程。AppliedMaterials公司的Pakala表示:“了解它,以及如何控制它仍然是一項(xiàng)困難的挑戰(zhàn)?!?/p>
MRAM和ReRAM都具有類似的讀取和數(shù)據(jù)保持規(guī)格。但與ReRAM相比,MRAM具有更高的溫度規(guī)格,這使MRAM在汽車等應(yīng)用領(lǐng)域具有優(yōu)勢(shì)。聯(lián)華電子的Uriu表示:“簡(jiǎn)而言之,MRAM可用于大多數(shù)汽車應(yīng)用,但ReRAM只能用于今天的消費(fèi)類應(yīng)用?!?/p>
圖6:MRAM與ReRAM(來源:聯(lián)華電子)
到目前為止,Adesto和Panasonic是僅有的兩家出貨獨(dú)立ReRAM的公司。盡管Crossbar專注于IP授權(quán)模式,但該公司也在開發(fā)獨(dú)立器件。在嵌入式領(lǐng)域,Crossbar正與Microsemi合作。Crossbar公司的Dubois表示:“Microsemi正致力于將嵌入式ReRAM集成到先進(jìn)的SoC或FPGA中,它將是14nm或12nm。這意味著ReRAM可以微縮。有一家代工廠正在與我們合作,他們的大規(guī)模生產(chǎn)線正在制造12nmReRAM”
其他公司也在開發(fā)ReRAM項(xiàng)目。Dubois說:“現(xiàn)在每個(gè)人都在關(guān)注ReRAM。如果你的應(yīng)用是讀取密集型,ReRAM要好得多。”
對(duì)于嵌入式ReRAM,主要應(yīng)用程序包括AI/機(jī)器學(xué)習(xí)、計(jì)算、家庭自動(dòng)化、工業(yè)和安全。
其他競(jìng)爭(zhēng)者
鐵電RAM(FRAM)是另一種值得關(guān)注的技術(shù)。它使用鐵電電容存儲(chǔ)數(shù)據(jù),F(xiàn)RAM是非易失性存儲(chǔ)器,具有無限的耐久性。
傳統(tǒng)的FRAM在微縮方面受到限制。為了解決這些問題,初創(chuàng)公司FerroelectricMemory(FMC)正在開發(fā)下一代FRAM,稱為鐵電FET(FeFET)。
仍在研發(fā)階段的FeFET并不是新器件。FeFET利用現(xiàn)有的基于氧化鉿的高k/金屬柵極堆疊的邏輯晶體管。然后用鐵電性質(zhì)對(duì)柵極絕緣體進(jìn)行改性。
FMC首席執(zhí)行官StefanMüller表示:“我們所做的主要是一種基于晶體管的技術(shù),基于晶體管的鐵電存儲(chǔ)器。我們正在推進(jìn)嵌入式領(lǐng)域的發(fā)展。這將成為消費(fèi)者市場(chǎng)中的一部分?!?/p>
同時(shí),在研發(fā)方面,Nantero公司正在研發(fā)碳納米管RAM。對(duì)于嵌入式應(yīng)用,富士通有望提供基于Nantero技術(shù)的首批碳納米管RAM。
Nantero公司的Doller表示:“我們的策略是為邏輯器件做嵌入式內(nèi)存。與此同時(shí),我們正在研發(fā)的是一款與DRAM兼容的高容量器件。它將與DRAM競(jìng)爭(zhēng)?!?/p>
因此,下一代存儲(chǔ)器正在取得進(jìn)展,它們?yōu)镺EM廠商提供了充足的選擇。但它們要成為主流器件,則還有很長(zhǎng)的路要走。由于DRAM和flash的發(fā)展?jié)L滾向前,它們也可能永遠(yuǎn)不會(huì)成為主流。