中國(guó)發(fā)明新晶體管,集成電路研究取得新突破
導(dǎo)語(yǔ):過(guò)去幾年的工藝進(jìn)步,讓晶體管的尺寸不斷的縮小,越來(lái)越接近物理極限,這樣才迫切需求并催生出新的結(jié)構(gòu)和原理的晶體管,半浮柵晶體管是在MOSFET晶體管中內(nèi)嵌一個(gè)廣泛用于低功耗電路的裝置——隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管(TFET)制成。
根據(jù)新華社消息,在美國(guó)《科學(xué)》雜志刊登一個(gè)報(bào)告中,中國(guó)研究人員在成電路的基本單元晶體管研究上取得突破,發(fā)明了一種名為半浮柵晶體管的新型基礎(chǔ)微電子器件,可讓數(shù)據(jù)擦寫(xiě)更容易、迅速。據(jù)了解,這項(xiàng)發(fā)明將有助于我國(guó)掌握集成電路的核心技術(shù),讓中國(guó)的芯片設(shè)計(jì)和制造能力在國(guó)際上去的更多的話語(yǔ)權(quán)。
負(fù)責(zé)該項(xiàng)目的復(fù)旦大學(xué)教授王鵬飛說(shuō):“國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)主要依靠引進(jìn)和吸收國(guó)外成熟的技術(shù),在微電子核心器件及集成工藝上缺乏核心技術(shù)。半浮柵晶體管的成功研制將有助我國(guó)掌握集成電路的核心技術(shù),從而在芯片設(shè)計(jì)與制造上逐漸獲得更多話語(yǔ)權(quán)。”
根據(jù)王鵬飛教授介紹,金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)是目前集成電路中的主流器件,過(guò)去幾年的工藝進(jìn)步,讓晶體管的尺寸不斷的縮小,越來(lái)越接近物理極限,這樣才迫切需求并催生出新的結(jié)構(gòu)和原理的晶體管,半浮柵晶體管是在MOSFET晶體管中內(nèi)嵌一個(gè)廣泛用于低功耗電路的裝置——隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管(TFET)制成。它的優(yōu)勢(shì)在于體積可更小,結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單,讀寫(xiě)速度更快,且一片這樣的晶體管的功效可比得上多塊MOSFET晶體管。
中傳動(dòng)網(wǎng)版權(quán)與免責(zé)聲明:
凡本網(wǎng)注明[來(lái)源:中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)]的所有文字、圖片、音視和視頻文件,版權(quán)均為中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)(m.u63ivq3.com)獨(dú)家所有。如需轉(zhuǎn)載請(qǐng)與0755-82949061聯(lián)系。任何媒體、網(wǎng)站或個(gè)人轉(zhuǎn)載使用時(shí)須注明來(lái)源“中國(guó)傳動(dòng)網(wǎng)”,違反者本網(wǎng)將追究其法律責(zé)任。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明其他來(lái)源的稿件,均來(lái)自互聯(lián)網(wǎng)或業(yè)內(nèi)投稿人士,版權(quán)屬于原版權(quán)人。轉(zhuǎn)載請(qǐng)保留稿件來(lái)源及作者,禁止擅自篡改,違者自負(fù)版權(quán)法律責(zé)任。
如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
下一篇:
?
晶體管研究重大創(chuàng)新 但需產(chǎn)業(yè)化領(lǐng)域發(fā)力?
在研究團(tuán)隊(duì)的努力下,半浮柵晶體管兼容現(xiàn)有主流硅集成電路制造工藝。換句話說(shuō),若開(kāi)發(fā)出芯片設(shè)計(jì)產(chǎn)品,制造企業(yè)無(wú)需更改原有生產(chǎn)設(shè)備即可加工制造。