優(yōu)納科技與其日本控股公司共同完成無掩模(Maskless)光刻(Lithography)設備的研發(fā)，成為國內(nèi)第一臺基于數(shù)字微反射（DMD）技術實現(xiàn)的無掩模光刻的設備，該設備可廣泛應用于納米電子，平板顯示，半導體，MEMS，μTAS，LCD，s生物芯片，和各類功能材料等領域，該設備具有以下特點：
1，利用DMD的縮影投射技術實現(xiàn)1每米的像素
2，實現(xiàn)薄膜透明材料的自動對焦
3，利用灰度圖像投影可實現(xiàn)三維保護膜加工
4，采用405納米波長LED光源，極大提高設備的可維護性和使用壽命
5，利用TTL（through-the-lens）對位技術實現(xiàn)高精度位置對準
6，可以實現(xiàn)不同厚度（亞微米-100微米以上）的保護膜兼容
7，重復位置精度0.1微米
8，各類光刻參數(shù)可以自由調(diào)節(jié)實現(xiàn)各種光刻的需要，可以制作出高質(zhì)量的光變圖像,例如2D圖像,2D/3D圖像,3D圖像以及各種精密的微刻圖像和文字等
9，支持標準CAD格式，兼容DXF，GDSII等
網(wǎng)站客服
粵公網(wǎng)安備 44030402000946號